标签：EUV光刻

三星电子冲击1nm：High NA EUV商业应用计划曝光

三星电子计划在1nm级工艺上商业化High NA EUV设备应用。公司称，2nm的SF2和1.4nm的SF1.4节点上，这项光刻技术仍不够成熟，但更高分辨率在1nm级将成为刚需，因...

in 未分类

2周前 5 0 0 0