标签：EUV曝光系统

三星电子为平泽P5晶圆厂PH1阶段采购70余台光刻机

三星电子已为其平泽半导体生产基地P5晶圆厂的首个阶段PH1订购70余台光刻机，以备2027年投运。这些光刻机来自ASML和佳能，其中约20台为ASML的极紫外（EUV）曝...

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