三星整合量子计算与AI升级芯片光刻，提升良率、降成本追赶台积电

报道称，为了缩小与台积电之间的差距，三星正加速推进半导体光刻仿真技术的升级，计划将量子计算与 AI 融入相关流程，以压缩光刻和蚀刻环节所耗费的时间与成本，同时进一步提升芯片密度和良率。

消息指出，这一项目将由三星子公司 Samsung SDS 牵头推进，预计于 2026 年下半年启动技术验证，重点围绕光刻工艺开发仿真算法。其技术路线将结合量子计算与 AI，目标是降低光刻和蚀刻流程的时间成本和制造成本。

光刻是半导体制造中的关键工艺之一，主要通过光学方式将电路图形转移到晶圆表面的感光材料上，随后再经过刻蚀等步骤形成实际电路结构。它通常用于先进芯片制造中的图形定义和尺寸控制。