三星整合量子计算与AI升级芯片光刻,提升良率、降成本追赶台积电

4个月前更新 laddes
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报道称,为了缩小与台积电之间的差距,三星正加速推进半导体光刻仿真技术的升级,计划将量子计算与 AI 融入相关流程,以压缩光刻和蚀刻环节所耗费的时间与成本,同时进一步提升芯片密度和良率。

消息指出,这一项目将由三星子公司 Samsung SDS 牵头推进,预计于 2026 年下半年启动技术验证,重点围绕光刻工艺开发仿真算法。其技术路线将结合量子计算与 AI,目标是降低光刻和蚀刻流程的时间成本和制造成本。

光刻是半导体制造中的关键工艺之一,主要通过光学方式将电路图形转移到晶圆表面的感光材料上,随后再经过刻蚀等步骤形成实际电路结构。它通常用于先进芯片制造中的图形定义和尺寸控制。

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