英特尔采用阿斯麦新一代光刻机生产部分Panther Lake笔电芯片

6天前更新 crj211401
4 0 0

光刻机制造商阿斯麦(ASML.O)表示,英特尔(INTC.O)已决定采用阿斯麦的高端设备,来生产其部分旗舰级 Panther Lake 笔记本电脑芯片。这一安排将帮助英特尔更高效地积累相关设备的使用经验,并加快工艺适配进程。

阿斯麦称,英特尔自 2024 年起已开始进行试验,并已启用阿斯麦下一代高数值孔径极紫外光刻机。该设备可将电路图案转印到晶圆上,用于制造其部分 Panther Lake 处理器。

英特尔采用阿斯麦新一代光刻机生产部分Panther Lake笔电芯片的封面图

相关快讯

ASML传拟涨价芯片设备,台积电据报不满

ASML 计划上调芯片制造设备价格,DUV 光刻机据称将涨价 10%,引发台积电不满。作为全球唯一的尖端光刻设备供应商,ASML 的产能直接影响半导体扩产节奏。尽管其预计未来两年 Low NA EUV 和 DUV 产量年增 30%,仍难满足 AI 带来的强劲需求。

英特尔豪掷50亿欧元扩建爱尔兰工厂,押注AI芯片需求爆发

英特尔宣布启动50亿欧元资本投资计划,扩建爱尔兰都柏林郊外莱克斯利普园区制造基地,重点升级Fab 34、引入先进设备并扩建晶圆传送系统,以提升Intel 3制程的至强6及下一代服务器处理器产能,满足AI和高性能计算需求。

科学家突破芯片堆叠新工艺,或将提升制程效率

韩国工业技术研究所与浦项科技大学科学家开发出一种新工艺,可稳定堆叠10余片超薄半导体芯片,使集成密度达到商用高带宽存储器(HBM)的约4倍。这一突破有望提升存储能力,缓解人工智能领域的存储瓶颈。相关成果已发表于《工程成果》。

英特尔再投50亿欧元扩建爱尔兰工厂,AI芯片产能加速提升

英特尔宣布向爱尔兰莱克斯利普园区追加投资50亿欧元,用于升级晶圆厂、引入先进设备并扩建自动化生产系统,以提升Intel 3制程下Xeon 6及下一代服务器芯片产能,同时扩大研发,满足AI和高性能计算需求。

三星整合量子计算与AI升级芯片光刻,提升良率、降成本追赶台积电

三星正为追赶台积电,计划在半导体光刻仿真中引入量子计算与AI,由Samsung SDS推进,拟于2026年下半年启动验证。该技术聚焦光刻工艺算法研发,目标是缩短光刻和蚀刻时间、降低成本,并提升芯片密度与良率。

Google Cloud上架SandboxAQ科学AI模型,助力新药研发与半导体材料开发

Google 将在云市场提供 SandboxAQ 的大型定量模型,帮助企业和研究机构加速药物发现、材料科学和半导体制造,并可与 Gemini 结合使用。此类模型基于数值数据训练,面向化学、生物和物理问题;OpenAI 也已推出生命科学研究模型。

暂无评论

暂无评论...